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棒銷式納米砂磨機(jī)特點(diǎn)
發(fā)布時(shí)間：2018-09-21 點(diǎn)擊次數(shù)：3540 次
隨著電子產(chǎn)品的逐漸小型化，對(duì)電池材料工藝的要求越來(lái)越高，電池行業(yè)正邁向轉(zhuǎn)折期，對(duì)電池材料設(shè)備供應(yīng)商的要求也高。
在材料研磨領(lǐng)域，材料企業(yè)、電池企業(yè)要求盡可能低的細(xì)度和均勻的顆粒粒徑分布。不同的電池材料，在研磨過(guò)程中有不同的表現(xiàn)，有的物料粘度隨細(xì)度的降低迅速增加，甚至呈現(xiàn)觸變性；有的物料磨到一定細(xì)度時(shí)顆粒粒徑不再變化，但單位比表面積還在增長(zhǎng)。
正負(fù)材料對(duì)研磨機(jī)的性能要求較高，納米級(jí)成為趨勢(shì)。目前，棒銷式納米研磨機(jī)是目前市場(chǎng)應(yīng)用上的設(shè)備主流設(shè)備。
原創(chuàng)的離心式大流量分離系統(tǒng)可使用0.03mm-0.8mm的研磨介質(zhì)，轉(zhuǎn)子的運(yùn)動(dòng)使介質(zhì)保持徑向運(yùn)動(dòng)，對(duì)產(chǎn)品產(chǎn)生剪切力，碰撞力不斷增加，腔體內(nèi)形成持續(xù)強(qiáng)力研磨，短時(shí)內(nèi)使粒徑達(dá)到要求30nm-1um，確保顆粒均勻和分布，目前石墨烯客戶和納米隔熱材料D50均研磨到30nm-60nm。
研磨能量集中，所有物料都在8-16m/s窄研磨區(qū)內(nèi)進(jìn)行高速研磨，粒子分布均勻再經(jīng)大流量分離系統(tǒng)出料，在氧化鋁，噴墨墨水等難磨的產(chǎn)品體系中，客戶現(xiàn)場(chǎng)數(shù)據(jù)顯示，相同功率情況下，瑯菱產(chǎn)能明顯高于同行業(yè)水平約百分之30-百分之50。
在材料研磨領(lǐng)域，材料企業(yè)、電池企業(yè)要求盡可能低的細(xì)度和均勻的顆粒粒徑分布。不同的電池材料，在研磨過(guò)程中有不同的表現(xiàn)，有的物料粘度隨細(xì)度的降低迅速增加，甚至呈現(xiàn)觸變性；有的物料磨到一定細(xì)度時(shí)顆粒粒徑不再變化，但單位比表面積還在增長(zhǎng)。
正負(fù)材料對(duì)研磨機(jī)的性能要求較高，納米級(jí)成為趨勢(shì)。目前，棒銷式納米研磨機(jī)是目前市場(chǎng)應(yīng)用上的設(shè)備主流設(shè)備。
原創(chuàng)的離心式大流量分離系統(tǒng)可使用0.03mm-0.8mm的研磨介質(zhì)，轉(zhuǎn)子的運(yùn)動(dòng)使介質(zhì)保持徑向運(yùn)動(dòng)，對(duì)產(chǎn)品產(chǎn)生剪切力，碰撞力不斷增加，腔體內(nèi)形成持續(xù)強(qiáng)力研磨，短時(shí)內(nèi)使粒徑達(dá)到要求30nm-1um，確保顆粒均勻和分布，目前石墨烯客戶和納米隔熱材料D50均研磨到30nm-60nm。
研磨能量集中，所有物料都在8-16m/s窄研磨區(qū)內(nèi)進(jìn)行高速研磨，粒子分布均勻再經(jīng)大流量分離系統(tǒng)出料，在氧化鋁，噴墨墨水等難磨的產(chǎn)品體系中，客戶現(xiàn)場(chǎng)數(shù)據(jù)顯示，相同功率情況下，瑯菱產(chǎn)能明顯高于同行業(yè)水平約百分之30-百分之50。
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